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用于互补双极工艺的全介质隔离SOI材料片的制造方法

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　1）课题来源与背景：
　　本成果提出了一种用于互补双极工艺的全介质隔离SOI材料片的制造方法，来源于国家科技重大专项课题中的工艺制造技术，为国家重点工程项目任务配套提供了技术支撑，已获得国家知识产权局发明专利授权。
　　2）技术原理及性能指标：
　　本成果（用于互补双极工艺的全介质隔离SOI材料片的制造方法）的技术原理是采用CMP单晶硅的方式形成有源层比外延...
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