首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

一种锰稳定氧化铪薄膜的制备方法

2017年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　本发明公开了一种锰稳定氧化铪薄膜的制备方法，制备过程为：以HfO2和MnO2为原料，按Hf0.8Mn0.2O2中阳离子的摩尔比为4∶1称量、混合、研磨、烧结；再次研磨、压片后重复烧结，并将烧结样品打磨后得到靶材。在一定的衬底温度、氩气分压、靶-衬距离下，入射到靶材表面的脉冲激光剥蚀靶体，形成羽辉后将掺杂氧化铪沉积到衬底上，制得锰稳定氧化铪薄膜。本发明工艺简单，所制备的锰稳定氧化铪薄膜具有很好的...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统