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聚氨酯材料抛光垫及其制备方法

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　1、课题来源与背景：
　　化学机械抛光技术是目前国际公认唯一可以提供全局平面化的技术，随着我国电子信息的发展，有效促进了半导体产业的发展，但我国自主知识产权的CMP技术和产品一直处于空白状态，其中CMP用抛光垫则完全依赖进口，影响我国集成电路芯片产业的发展。公司通过长期的调查研究，决定进行集成电路抛光工艺材料的科技攻关，开发出具有自主知识产权的抛光垫及技术。
　　2、研...
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