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大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　一种大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法，激光器发出的相干光通过扩束器后由聚焦透镜聚焦，穿过焦点后经随机相位板形成散射光斑，用一个光斑探测器记录第一幅散射光斑；然后将大口径光学元件紧贴放置在聚焦透镜的前面，用光斑探测器记录第二幅散射光斑，通过记录的散射光斑并由计算机进行迭代计算获得随机相位板上的照明光场分布，由菲涅尔衍射积分公式计算可以获得聚焦透镜面上的光场分布，分别求出二次曝光记录的...
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