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193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
一种193nm熔石英光栅起偏器及其在光刻设备中的应用，该光栅式起偏器在熔石英薄片的表面上刻有一定图形的光栅，该光栅为亚波长周期、深刻蚀光栅，该光栅的线密度为5260～5400线/mm，深度为1.1～1.2μm，占空比为30%～40%。该熔石英光栅起偏器是直接在紫外可透的光学薄片上制作光栅，能够有效避免能量损耗，并提高光学元件的稳定性。加工工艺成熟，精度高，能有效降低起偏器的成本。采用熔石英...
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