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硅基量子点纳米多层膜的制备与性能研究

2014年 基础理论
  • 成果简介
目前，量子点多层膜研究主要集中在InGaAs/GaAs量子点超晶格制备和性能研究方面，而对硅基量子点多层膜的制备和性能研究最近几年才见到相关研究报道。本项目的特色与创新之处在于利用反应磁控溅射与常规磁控溅射技术交替沉积Si/SiNX多层膜，其具有能够准确控制薄膜组分优点。有关硅量子点多层膜的制备和性能的研究可为设计具有梯度带隙的多层膜结构提供实验支持；为设计和制备全硅型纳米硅基太阳能电池和...
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