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抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法和抛光工艺

2014年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本发明抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法以及抛光工艺属于光学元件的抛光用的消耗性材料以及制备方法，以及用该抛光粉的抛光工艺。抛光粉由按重量比为0.5份～3.0份的三氧化二铬粉，和1.0份的三氧化二铝粉组成，三氧化二铬粉的粒度为0.05～0.10微米，三氧化二铝粉的粒度为0.05～0.10微米。抛光工艺包括1)上光学元件的抛光模、2)填抛光粉、3)放上镜盘、4)固定镜盘、5)摩擦抛光。抛光模...
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