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稀土产业技术创新战略联盟重点项目——半导体用光掩膜专用稀土抛光粉

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　随着半导体、PCB行业呈现高势头发展趋势，对作为半导体制造流程中的关键过程—光掩膜的要求也逐步提高，而光掩膜质量的好坏与其玻璃基板的表面光滑度和平整度有着极为密切的关系，玻璃基板表面质量差将直接产生间隙、微孔等缺陷，这些缺陷会影响芯片的制作质量和使用效果。因此，玻璃基板用的抛光材料是光掩膜生产中的决定性因素。
　　我公司通过不断发展创新，形成了适合本地区资源优势的生产工艺体系，研发...
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