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精密反射式光栅的压印制造技术

2014年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
成果属于微纳制造技术及精密测量领域。以发展高档数控机床及测量仪器用精密反射式光栅制造技术为目标，开展高精度反射式光栅及读数头研究。
主要取得了如下主要研究成果：(a)针对精密反射式光栅（光栅线纹特征10μm)槽型的纳米精度制造要求，发明了释放保型纳米压印技术，实现了反射式光栅结构纳米精度制造；(b)针对精密反射式光栅（光栅线纹特征1μm）槽型的亚纳米精度制造要求，发明了...
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