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集成电路关键清洗材料

2013年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
针对清洗材料—光刻胶（光阻）去除剂严重依赖进口，产品金属腐蚀性大、成本高、环境污染大、易爆且供应商单一等缺点，进行光刻胶去除剂产品及技术的研究，完成集成电路制造后段蚀刻光刻胶去除剂IDEAL Clean系列产品、晶圆级封装光刻胶去除剂BPC1000系列产品、三维封装光刻胶去除剂BPC1200系列产品等产品的研发，产品具有光刻胶（光阻）去除效果好、蚀刻度低、环境友好等特点。攻克产业化关键技术...
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