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一种肖特基芯片的生产工艺

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
一、课题来源及背景
根据半导体原理，肖特基属于表面半导体器件，那么，增加表面积势必增加其工作效率提高有效性，所以，国际上多年来一直在研究和探讨用ICP来腐蚀表面的沟槽结构，这项技术的优点是可控性好、均匀一致性能好，缺点是设备昂贵，腐蚀产生的尾气对空气污染大，需要大的投资和严格的尾气处理。而传统的湿法酸腐蚀工艺，由于其腐蚀性以及国产发热反应等因素，多年来，没有大的发展和改...
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