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超薄区熔硅抛光片的抛光工艺

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
超薄区熔硅抛光片的抛光技术，适用于生产4、5、6英寸的超薄区熔硅抛光片，其特征在于，所述方法包括以下次序的工艺步骤：
(1)超薄区熔硅片贴蜡，贴蜡部的滴蜡量控制在每片2～3ml范围；
(2)将贴蜡后的超薄区熔硅片放到已预热的陶瓷板上进行贴片，陶瓷板温度控制范围为120～150℃；
(3)片压头对带有蜡膜的超薄区熔硅片进行加压，硅片...
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