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半导体器件及金属材料的真空热处理专用设备——真空炉

2012年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
该项目提供一种具有温度均匀稳定、升温速度快、节能及寿命长等特点的真空炉装置。该真空炉主要由机械框架、炉膛、真空系统组成，机械框架为立式结构，上部固定炉膛，里面装有真空系统；炉膛为外密封式，由真空罐和加热腔组成，真空罐由双层钢板焊成密封圆桶形；加热腔为整体式，可以进出真空罐，采用全纤维轻质材料咬口拼装而成。这种真空炉的真空系统可在高温时连续抽真空，提供优良的真空环境；利用钢板夹层隔绝热量，降...
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