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低压化学气相沉积（LPCVD）设备

2011年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

　　理想能源设备研制的低压化学气相沉积设备，具有以下优点：1.多沉积腔室保证了世界领先的产能；2.创新的气体分布和精确的温度控制保证了膜厚、透过率、电阻及雾度均匀性；3.实时控制软件系统，完全基于网络架构设计，界面友善，操作简单，数据传输安全、采集方便，可实现无任何软件安装的远程监控及远程控制。同时，以该设备生产出来的TCO既可用于硅基薄膜太阳能电池，也可用于铜铟镓硒（CIGS）、碲化镉（CdTe...

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