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等离子体化学气相沉积法制备低水峰光纤的关键技术合应用

2010年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本项目在充分利用PCVD工艺沉积效率高和对折射率剖面控制精准的基础上，从设备到工艺进了彻底革新，解决了PCVD 难于制造低水峰光纤和大尺寸光纤预制棒的难题，并开发了行业领先的抗弯曲单模光纤预制棒和光纤。具体措施和创新点如下：一、开发了在线纯化技术，有效降低了PCVD 预制棒中的羟基含量，成功研制出低水峰光纤预制棒；二、采用功能梯度的材料组成和结构设计，在防止外界羟基对芯层侵蚀的同时，可降低光纤...
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