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碳纳米管薄膜新工艺技术研究

2002年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
　　本项目属于真空微电子领域的前沿课题，是真空微电了与纳米电子学交叉的应用技术，该项目是碳纳米管场发射显示器的一个子课题，主要研究用碳纳米管薄膜作为场发身阴极的关键技术，其内容包括大面积硕纳米管薄膜的备，碳纳米管薄膜的定域，定向生长，碳纳米管场发射性能的优化，碳纳米管薄膜的纯化等，研究成果包括两项碳纳米管薄膜的制备加工工艺，溶胶CVD法是一种可控碳纳米管薄膜生长工艺，它利用氢氧化铁，溶胶作为碳纳米...
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