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等离子体增强渗注镀复合处理设备

2007年 应用技术
  • 成果简介
等离子体增强渗注镀复合处理设备由清洗离子源、溅射离子源、高能金属离子源、高能气体离子源、小多弧源及中频磁控溅射靶等组成。它克服了离子注入与离子镀膜由于工艺条件不一致而不能复合在一台设备上的技术难关，使离子注入和离子镀膜有机地结合起来，并使得在不同材质的工件上原位连续进行离子束清洗、单元注入、双元注入、增强沉积成膜、离子镀各种多层膜及复合化合物膜的工艺得以实现，使该机应用范围大大扩展，并具有...
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