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物理气相沉积设备的辅助控制装置和方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
　　本发明公开了一种物理气相沉积设备的辅助控制装置和方法，旨在对半导体元件进行物理气相沉积过程中的各种状态进行监视、记录与显示，从而克服了物理气相沉积设备发生故障后进行膜层补长和故障修复时带来的问题。包括：一台计算机，其上的通讯接口应与所述物理气相沉积设备上的控制系统中的通讯模块的通讯接口相匹配；一通讯线，该通讯线两端的接口应与前述两个通讯接口相匹配，将个人终端与所述控制系统连接在一起；以及一运行...
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