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M42150-1/UM型等离子体刻蚀机

2002年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
 1、课题来源及背景
该设备是2000年根据用户上海太阳能科技发展有限公司的要求制造的。
   2、技术原理及性能指标
等离子体刻蚀机是采用高频辉光放电,使反应气体分子激活成活性粒子,如原子、离子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀部位,在那里与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性生成物而被除去。
   其主要性能指标:
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