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M8020-1/UM型液态源化学气相淀积设备

2002年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
 1、课题来源与背景
M8020-1/UM型液态源化学气相淀积设备,根据用户单位武汉邮电科学院光讯科技有限公司的要求,结合近年来国外科技发达国家CVD技术的发展而研制的。
   2、技术原理及性能指标
液态源化学气相淀积工艺制备的SiO_2膜,可在微电子、光电子、微机械技术等领域获得广泛的应用。它克服传统的SiH_4+N_2O气态源生长所...
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