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M80100-1/UM型低压化学气相淀积设备

2002年

应用技术

中期阶段

成果简介

　1、课题来源与背景
设备是2000年9月与中国科学院声学研究所签订合同，于2001年9月交付使用的M80100-1/UM型低压化学气相淀积设备。此项目属计划外横向任务。
　　　2、技术原理及性能指标
该设备主要用于多晶硅（Poly-Si）和氮化硅（Si_3N_4）薄膜的淀积，淀积所得薄膜用于声学微振动系统。M80100-1/UM型低压化...

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