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0.1微米电子束曝光实验装置的研制

2000年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
“0.1微米电子束曝光及实验装置的研制”是中国科学院“九五”应用研究与发展重大项目。该装置也是我国第一台自行研制的0.1微米电子束曝光机。
??微电子光刻设备是制造大规模集成电路的先导和基础。在众多的微电子设备中，以电子束曝光机为代表的制版光刻设备往往决定着器件的性能水平和成本。电子束曝光机是微电子、光电子产业和半导体科研不可缺少的关键设备，它以超微细加工为主要特征。既可用于常...
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