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电子束缩小投影成像曝光系统

2005年 应用技术
  • 成果简介
本项目为中国科学院创新工程重大项目，编号：KGCXl-Y-8，1999年9月开题，2002年3月完成，并通过专家组评审和验收。
电子束缩小投影成像曝光技术是21世纪用于纳米级集成电路生产的主要光刻技术之一。本项目完成了一套200KV加速电压的投影成像原理装置，在该装置上完成了缩小投影成像曝光的原理试验，达到的技术指标是：最细曝光图形线宽为78nm；掩模图形面积为3×3～...
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