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低压、气动旋转衬底座XG2-1型MOCVD装置

2003年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

MOCVD装置是当今国际上，用于生长半导体单晶薄膜的先进设备。它广泛应用于制备航天太阳能电池，半导体激光器，光电阴极，发光管，微电子器件和各种量子阱结构材料。该装置利用了自己的专利技术制作成低压、气动旋转衬底座反应室，使得该装置拥有自主知识产权。该装置主要技术指标是：
1、设有12路流量控制管路，一路氮气傍路，七路源，可以生长大部分族化合物。
2、气...

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