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超高、超低阻值电阻薄膜溅射用靶材的研制

2003年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
随着大规模集成电路（VLSI）的日趋应用，薄膜电阻作为厚薄膜混合集成电路的主要元件，实用要求的电阻值及电学稳定性越来越高。因此，开发超高阻值（几千欧以上）且具有较小电阻温度系数的电阻薄膜有着现实的意义。在当代，以合金为靶材，通过真空蒸镀或溅射的方法制备薄膜电阻已被广泛地用于电子工业及半导体工业；要实现前述目标，首先就要有能溅射超高阻的合金靶材，开发超高阻溅射靶材就是当务之急。
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