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SP-2型射频磁控溅射台

2001年 应用技术
  • 成果简介
该项目研制的射频磁控溅射台是经长期实践检验性能优良的科研和生产两用型设备。它可用于各种金属薄膜(如Au、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Tl等)的淀积,与普通溅射台相比,它具有以下优点:采用分子泵机组抽真空,真空度高,无油污染;具有三个靶座,可同时溅射两种金属,可形成多层复合膜或实现金属共溅射(根据用户需求,可选择φ60或φ100mm的靶座及90×160方靶);片子可旋转,不仅可以提高均匀性,而且可以...
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