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离轴照明掩模板

2001年 应用技术
  • 成果简介
这种离轴照明掩模板是对光刻机光刻系统中掩模板结构的进一步改进。其特征是根据掩模板下的表面的掩模图形的形状和特线征宽，上表面刻蚀相应宽度和形状相位光栅和图形，将产生离轴照明的相位光栅和图形与传统掩模板结合为一体结构。使掩模板本身具有离轴照明功能，能量无损失，均匀性好，改变三束光成为二束光成像，使光刻分辨力和焦深得到提高，而光刻设备不需作任何改变。在接触接近式光刻中应用效果相同。...
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