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离子束刻蚀机

2002年 应用技术
  • 成果简介
离子束刻蚀机采用精密设计的准直离子束物理溅射，可在导体、半导体材料表面或薄膜中刻蚀超精细的精密图形，用于制造各种近代声、光、电磁和超导器件。离子束刻蚀机具有高分辨率、高精度几何图形转移能力，各向异性刻蚀，适用任何材料，为制造红外探测器件、高频石英体波谐振器、精密动压马达、高精度器件提供了重要手段。主要技术指标：系统极限压强≤6.7×10^(-4)帕，供电系统：220伏/380伏、3相60赫兹；直接...
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