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JGP500A型超高真空多靶磁控溅射设备

1996年 应用技术
  • 成果简介
　　磁控溅射设备广泛应用于半导体、微电子工业、光学和机械工业等行业，用于制备各种半导体膜、绝缘膜；在集成光学领域中可制成光波导用氧化物、透明介质薄膜、透明导电膜；在表面处理方面可做防腐蚀膜、耐热合金膜、装饰膜和硬质膜等。该设备是专为云南大学制备非晶半导体/金属超晶格材料而研制的。由主机系统、气路系统、真空系统和电源系统组成。经使用证明，其主要技术指标已达到或接近国际先进水平。磁控溅射膜具有成膜速度...
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