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100nm步进扫描投影光刻机光刻仿真

2004年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
（1）任务来源：受国家863 IC重大专项“100 nm步进扫描投影光刻机”承担单位《上海微电子装备有限公司》委托，中国科学院电工研究所李艳秋研究员领导的项目组，承担并完成了“100 nm步进扫描投影光刻机光刻仿真 ”项目的任务要求。
（2）应用领域和技术原理：应用领域：半导体、微电子、光学、材料、自动化领域。技术原理：根据研究光刻设备中所用到的光学、微电子技术、芯片设...
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