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优化ZnO薄膜场发射特性的膜厚调制方法

2016年

应用技术

初期阶段

成果简介

　　本发明公开了一种优化ZnO薄膜场发射特性的膜厚调制方法，该方法选择Si做衬底，金属锌靶做靶材；用氨水、双氧水和去离子的混合液煮沸衬底后用去离子水将衬底冲洗干净；然后依次用甲苯、丙酮和乙醇溶液超声清洗衬底，再将衬底Si送入射频磁控溅射仪；抽真空，调整背底真空度，Ar和O?,的比例，工作气压，靶基距，溅射功率和衬底温度到合适值后，用改变溅射时间来进行镀膜得到从而得到不同厚度的ZnO薄膜。本发明通过...

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