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一种真空磁控溅射镀膜用的旋转阴极

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
真空磁控溅射镀膜是当今大面积薄膜沉积领域中镀膜质量最好，应用范围最广的镀膜沉积工艺，在磁控溅射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，在磁控溅射镀膜设备中，磁控溅射阴极尤为重要。目前普遍采用的是平面磁控溅射阴极或简单的旋转阴极，但是由于平面阴极结构设计上的缺点，阴极靶材沉积利用率非常低（不超过40%）。并且一定时间后，会形成跑道状溅射区域，严重影响后期镀膜的稳定性和均匀性，而简单的旋...
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