成果简介
一、项目来源及背景
项目产品自主研发,关键核心技术拥有发明专利。现已量产,有着较大的市场份额。
功率半导体技术是改造传统产业、发展高新技术和高效利用能源的主导技术,功率半导体芯片是功率半导体技术发展的关键。项目产品终端结构优化,终端结构多重台阶沟槽造型。广泛应用于工业控制、无功补偿(智能电网)、模块电源等重点领域,市场应用领域渗透性强。
二、项目介绍
现有的晶闸管芯片采用挖槽工艺,承受的耐压较低(<1400V)且正反向耐压不对称,反向耐压高于正向耐压,原因是该结构引起空间电荷区展不宽,电场集中,导致正向耐压低,反向耐压由于是正斜角结构,电场弱,所以耐压高。亟待解决结终端结构的耐高压问题。
项目产品通过在沟槽的两内壁对称设置有台阶结构,该沟槽设置有两级或三级台阶结构且其高度过PN结伸入基区20-70um。可有效增大沟槽表面积,降低P层表面浓度,有利于空间电荷区的展宽,达到降低表面电场强度的效果,并减少了正反向耐压的差距。