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0.18/0.1微米CMOS集成电路关键技术研究

2000年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
本项目研究成果由两个“九五”国家重点科技攻关专题组成:97-762-01-01“0.35微米集成电路关键技术”和97-762-01-03“0.1微米级CMOS器件结构及性能研究”。此两个专题依据合同规定并超出合同的要求,在国内率先深入、系统地开展了0.35/0.25/0.18/0.1微米CMOS集成电路关键技术研究,研发成功了8项可实用化的工艺模块,为今后开发生产工艺奠定了基础。包括: <...
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