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一种提高膜厚均匀性的离轴溅射控制方法

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明公开了一种提高膜厚均匀性的离轴溅射控制方法，系用圆形平面靶2溅射薄膜，基板1与靶2偏心放置，两者中的任意一个绕其中心轴自转，薄膜的厚度均匀性由靶基距h和偏心距D调节，当刻蚀环3的断面为U形或近似于矩形，并且溅射时气压小于5Pa时，h和D的优化比例关系控制为：D=3+0.7r1+0.3r2+（2/3±0.1)·h式中r1、r2分别为靶2上形成的刻蚀环3的内径和外径。该方法是针对离轴溅射，快...
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