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一种平面磁控溅射－多工位镀膜装置

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明的目的是提供一种平面磁控溅射－多工位镀膜装置，它是由平面磁控溅射靶14、工件夹15、加热器28、充气孔29、真空室30、真空抽气组32，其特征是它还包括：转盘16、连接杆17、小齿轮18、小齿轮19、连接杆20、自转电机21、公转电机22、连接杆23、中齿轮24、连接杆25、大齿轮26、连接杆27等组成。它具有工件装载量大(即多工位)、镀膜均匀性好、易于推广应用等特点。...
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