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弧光辉光协同放电气相沉积陶瓷薄膜的研究

2015年

应用技术

初期阶段

成果简介

项目采用了磁控多弧共溅射方式制备TiN与TiAlN薄膜，开辟了一种新型的薄膜制备方法。磁控多弧共放电气相沉积（arc plating sputtering cement deposition，APSCD）解决共放电电场和磁场存在互相干扰的问题，建立稳定的磁控多弧共放电模式。项目还建立APSCD沉积薄膜的形核生长模型，并通过对工艺参数、薄膜微观结构和沉积原理的分析，研究了薄膜的显微硬度、膜层...

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