多晶硅厂是一个纯度要求高、工艺复杂、设备种类众多的化工系统，多晶硅产品中部分还具备冶金系统和半导体电子元器件的特点。由于产品要求纯度较高，相应地输送产品原料的管线和储存提纯原料的设备也就要求较高、较严格的洁净度。安装前若不进行清洗，设备上的锈渣的油渍等单靠系统物料的冲刷是无法达到洁净要求的；如不干燥，系统内哪怕一点水就会造成原料水解、设备腐蚀和系统堵塞。而只做简单的清洗，系统内壁附着的污物是不可能完全清除干净，只要有残留，存在系统内的污物就会随时间慢慢衰减，造成系统净化处理阶段的废品率增高，工厂产出价值降低，由此造成在的损失是可想而知的，因此，为了缩短工艺系统调试时净化处理的时间，最大限度地降低调试费用，尽早产出符合纯度要求的高纯硅，必须要做好工艺设备和工艺管道安装前的清洗工作。
　　目前，多晶硅清洗工艺一般采用四氯化碳进行脱脂，并利用四氯化碳的易浑发性达到干燥的目的，但四氯化碳为有毒物质，不利于环保。
　　本项目开发了一种多晶硅装置的清洗办法，该方法包括：
　　（1）用脱脂剂对装置进行脱脂清洗；
　　（2）用无油干燥空气对清洗后的装置进行干燥。
　　所用无油干燥空气露点≤-400C，油含量≤0.01mg/m3，尘埃粒子≤0.01um,流量为40～60m3/min。脱脂剂为2～5%重量的氢氧化钠溶液，配置氢氧化钠溶液所用水为纯水，纯水含量为零，电导率《15us/cm，氯离子《5mg/L。本发明根本上解决了系统干燥问题，保证最终投产前的干燥，同时能够满足环保要求。
　　目前多晶硅装置的清洗均采用此方法。即确保了多晶硅产品质量，又达到了环保要求。
　　

焦永涛、王波、邢朝政