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32-22nm介质刻蚀机

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本项目中微公司自主研发制造的单台反应腔介质刻蚀设备，属于极大规模集成电路制造装备领域，也是国家科技发展中长期规划中“02专项”的攻坚方向之一。与国际上现有的其他介质刻蚀设备相比较，本项目设备的独特设计给刻蚀工艺提供了更宽广的调控空间，刻蚀的形貌更好，良率更高，能满足某些目前国外的设备还做不到的刻蚀产品要求。
中微的单台反应腔介质刻蚀设备已经进入国际市场，并在世界最领先的...
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