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一种MOCVD设备

2013年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
本成果涉及MOCVD设备,使两种气体的喷孔均匀有间隔地交替分布在进气装置的底面,使两种气体进入反应区域后能有效混合,并容易控制气体均匀垂直地输送到衬底片表面上,来进行外延反应。衬底片的托盘采用高速旋转的结构,利用由此产生的泵效应能够把反应气体迅速地输送到衬底片的表面上,并且通过高速旋转的离心力还可以把反应后的气体迅速排出,实现了外延生长需要的条件。此外,反应区域的空间高度适合配置机械手,以...
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