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高纯硅晶体制作技术

2012年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　在郑智雄先生的带领下，公司已掌握了低成本、低能耗冶金法高纯硅的制备技术，但由于冶金法高纯硅杂质含量较高，不稳定的干扰因素较多，容易造成拉晶过程中的晶格破坏，从而造成成品率的大幅度降低，甚至形成不良品。比如，在晶体生长初期，放肩到等径生长的过程中，由于热力场受到比较多的干扰，容易造成热场的急剧变化而形成断棱以致无法成晶。故，公司致力于开展研发项目“高纯硅晶体制作技术的研发与应用”，通过引进先进的...
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