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核径迹综合防伪标识

2004年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
  1、核径迹防伪技术:利用原子能反应堆核裂变过程产生的高能粒子,损伤PET膜分子链形成了核径迹膜,再利用成像和化学蚀刻工艺,在核径迹膜上产生由微孔(孔径4~5um,孔密度6×10^5个/cm^2)组成的用户特定的防伪图案或文字。
  2、局部全息技术:局部全息技术是在防伪标识彩色印刷图案的特定位置,运用特殊工艺及先进的光、机电一体化设备,精确地设置全息图案或文字。
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