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高密度等离子体刻蚀机

2010年

应用技术

成果简介

技术特点：
ICP-98A型是一种刻蚀速率高、加工精度高、损伤小的新一代先进刻蚀机它由一组大功率的射频激励电源通过感应耦合在反应室内产生高密度等离子体，而由另一组功率较小的偏压电源引导离子垂直于被刻蚀物体运动，从而达到各向异性和高速低损伤刻蚀的目的。可刻蚀出几十纳米的近90度陡直的图形；还可用于百微米级的MEMS Si深刻蚀和W的深刻蚀。
ICP-9...

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