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光学反射镜用致密碳化硅涂层的制备方法

2009年

应用技术

成果简介

该制备方法涉及化学气相沉积（CVD）SiC涂层的制备方法。CVD工艺制备的SiC涂层的特点是：1、高温抗氧化：温度高达1600℃时抗氧化性能仍然非常好；2、纯度高、均匀、致密、颗粒细、无缺陷；3、耐冲刷；4、抗腐蚀性：耐酸、碱、盐及有机试剂。该技术获授权发明专利1项。
该技术适用于民用LED产业，用于外延生长GaN半导体用石墨基座/石墨盘的整体保护涂层，具有CVD Si...

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