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立式氧化/扩散炉

2004年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

系统设计思想的基点首先是要满足国际通行的SEMI标准。如：在整个工艺过程中要实现硅片的无接触传送（即SMIF、机械手传送），以保证0.13μm要求的一级以上的工艺环境；适合设备组群模块通讯的HSMS/SECS-Ⅱ通讯环境；规范设备通讯硬件接口及信息内容的SECS(Ⅰ/Ⅱ)协议；恒温区自整定标准及温度均匀性标准等等。
其次，要保证设备运行的高可靠性，这是IC生产线对工艺设...

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