首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

深亚微米集成电路成品率增强技术的研究

2010年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
本项目针对影响深亚微米集成电路成品率主要因素之一，版图的优化及其成品率提升技术作了系统的研究，主要成果如下：
基于缺陷的真实轮廓特征、粒径特征和空间分布特征，提出了基于真实缺陷的带权关键面积模型和版图优化位置提取模型和算法。在模型中，考虑缺陷的真实形状，可提高其计算精度；考虑缺陷的粒径分布，能准确反应版图对缺陷的粒径敏感度；考虑缺陷的空间分布特性，则使版图优化设计进一步...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统