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8英寸0.1微米集成电路生产工艺的高密度等离子刻蚀机

2008年 应用技术
  • 成果简介
自主开发的0.1微米工艺的超大规模集成电路刻蚀机、注入机装备已投入到生产线试应用，北京电子控股集团北方微电子基地工艺研究中心研制出满足8英寸0.1微米集成电路生产工艺的高密度等离子刻蚀机，接近国际先进机型的水平。目前，已完成产业化机型β机的总装集成和调试，实现了全自动送片、刻蚀工艺过程，投入到生产线上进行试应用。...
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