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表面等离子体超衍射光学光刻基础研究

2009年 基础理论
  • 成果简介
　　光学光刻技术是半导体加工设备的核心，但由于传统光学光刻理论波长和分辨力之间的限制关系，在实现50nm线宽以下光刻技术节点时，业界面临着采用短波长光源技术路线导致极其复杂光学系统、材料、工艺不兼容等诸多技术障碍和高昂的研发成本。因此国际上迫切希望能够寻求一种突破衍射极限对分辨力限制的新概念光学光刻技术，在长波长光源下实现远小于波长的超分辨光学光刻，从而解决当前光学光刻的理论和技术困难。
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