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液体涂抹法区熔硅单晶的掺锗方法

2009年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本发明涉及一种液体涂抹法区熔硅单晶的掺锗方法。它是使用含锗元素的盐酸溶液涂抹在硅单晶的表面，烘干后装到区熔炉上，按通常的区熔工艺进行区熔熔炼或生长单晶。本发明是理想的掺锗方法，不但使锗掺得进去，而且锗在硅中的浓度均匀可控，掺锗工艺无沾污，保证了硅单晶的质量。该方法设计合理，工艺先进，效率高，推广潜力大。...
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