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微/纳光学阵列元件的电化学刻蚀加工新方法

2009年

基础理论

成果简介

　　1）本项目为福建省自热科学基金重点项目，项目的背景如下：
　　传统的光学器件由于体积较大、材料难以选择和难以加工等原因，已经不能满足光学工程和多种技术发展的需要。微/纳光学元件由于具有体积小、重量轻、设计灵活、可实现阵列化和易大批量复制等优点已成功地应用于现代光学的各个领域中。约束刻蚀层技术（Confined Etchant Layer Technique,CELT）是具有自主知识...

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